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更新時間：2026-01-07 
瀏覽次數：41在半導體制造工程中，清洗工藝是確保器件良率的關鍵環節。隨著微細加工技術的進步，清洗介質與清洗方式的優化變得至關重要。本文基于野村マイクロ?サイエンス和久井茂夫先生于2003年發表的技術文獻，探討在超純水高壓清洗過程中，針對靜電故障問題所采取的技術對策。
一、 技術背景：高壓清洗與靜電隱患
在半導體器件的制造工程中，為了去除晶圓表面的微細顆粒，常采用超純水（Ultrapure Water）進行高壓噴射清洗。然而，這一工藝面臨著一個顯著的物理矛盾：
超純水雖然去除了離子雜質以滿足高電阻率要求，但其在高壓高速流動過程中，容易因摩擦而產生靜電積聚。文獻指出，在這一環節中，**“靜電故障"（靜電気障害）**是影響生產穩定性的主要風險之一。若不加以控制，靜電放電可能對敏感的半導體元件造成不可逆的損傷。
二、 解決方案：Super Bubbler WAC 裝置
針對上述問題，文獻重點介紹了一種名為**“Super Bubbler WAC"**的超純水帶電防止裝置。該裝置的設計初衷即是為了應對高壓清洗環境下的特殊挑戰。
根據文獻記載，該技術屬于**“超純水帶電防止技術"**范疇。其核心功能在于通過特定的工程手段，在不破壞超純水水質的前提下，有效抑制清洗過程中靜電的產生與積聚。雖然具體的內部構造細節屬于企業核心技術，但文獻明確闡述了該裝置在解決“超純水高壓清洗"這一特定場景下的必要性。
三、 技術意義
這篇發表于2003年的文獻，反映了當時半導體行業對于微細加工中物理極限問題的關注。它不僅識別了“超純水"與“高壓清洗"結合時產生的靜電風險，更提供了一種具體的工程化解決方案。
Super Bubbler WAC 的出現，代表了當時業界在流體控制技術上的一個重要方向——即在追求更高清洗力度（高壓）的同時，必須同步解決由此衍生的靜電防護問題，以保障半導體制造的工藝穩定性。
結語
雖然半導體制造技術日新月異，但基礎流體工藝的優化始終是行業發展的基石。回顧此類經典技術文獻，有助于我們理解在微電子制造中，如何平衡“清洗效能"與“物理安全性"這一永的恒的命題。
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